标签：进入 渐进 erer 虚拟 尺寸 品质 direction 阴影 距离
由于最近更新了ShadowMask,渐进式光照这些功能。所以试了下
1.模型需勾选Generate Lightmap UVs，否则烘培图像撕裂。
2.关于为何新版的改叫Mixed Lighting，之前是全烘培，现在算是部分烘培，实时阴影和烘培阴影可以混用，等等，Unity的未来方向。
3.关于shadow mask。旧版本(5.4或者之前)，烘培出的贴图是没有shadow mask的，而且烘培阴影和实时阴影没法很好的融合，两种区分很明显。
其次是光照探头LightProbe也没办法把阴影暗部信息储存进去。现在的话实时阴影和烘培阴影可以很好的融合在一起，并且光照探头也会保存阴影信息
动态模型进入暗处后也会随之变暗。
而Distance Shadow mask则是近看是动态阴影，远看变成烘培阴影，但会带来更多的开销。
4.烘培光照参数设置:
1).Indirect Resolution 间接光照分辨率，设置低了烘培速度更快，反之越慢。不会影响最终贴图大小。
2).Lightmap Resolution 光照贴图分辨率，低了影响品质。会影响最终贴图大小。
3).Lightmap Size 贴图尺寸，这个设置大了之后可以优化最终贴图大小。我设置2048。
4).Directional Mode 以前好像有一个Directional Specular，由于现在往混合光照方向发展，去掉了这个。这个设置成非方向性的可以优化最终贴图大小。
5).Mesh Renderer里的优化uv设置，角度和距离改了感觉对优化没什么用，可能影响显示效果。
5.注意C盘空间，虚拟内存。最后光照图传回unity的时候经常crash......
暂时写这些，如果未来BakeGI接触的多了可能会写一篇详细的。
Unity5 BakeGI(Mixed Lighting)小记
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原文地址：http://www.cnblogs.com/hont/p/7158464.html
