标签：设置说明 金属 inpu 说明 区分 corn rom direction 距离
LEF 文件是布局布线根据使用的cell 几何信息库的文件格式，下面是一个LEF文件的部分，右边是对他的解释。布局布线工具将根据LEF文件的信息决定怎样布局，怎么走线，怎样生成通孔。
VERSION 5.5；版本说明
NAMESCASESITIVE ON;LEF 区分格式大小写。
BUSBITCHARS "< >"; 设置定义bus标志符，端口名称为X<1>,X<2>,...X<n> 将看作bus
UNITS
DATABASE MICRONS 100; 设置定义1微米分成100个unit,即为单位长度的值。
END UNITS
LAYER metal1 设置定义层为金属1层，同时下面是对定义的金属1层的具体细节设置。
TYPE ROUTING; 定义metal1用于routing
WIDTH 0.10; 定义金属1层在作为布线金属时，默认线宽为0.1 um
SPACING 0.30; 定义金属1层的走线间距为0.3um
PITCH 1.2; 定义金属1层到通孔的距离为1.2
DIRECTION HORIZONTAL; 金属1层走线方向为水平走线。
CAPACITANCE CPERSQDIST 0.000140； 该设置定义每一个方块(1x1um)的电容大小。
RESISTANCE RPERSQ 0.04； 设置每一个金属的方块电阻。
END metal1
LAYER via
TYPE CUT; 定义via为布局布线下的CUT类型，即Metal1 和 Metal2 的通孔
END via
LAYER metal2 该设置定义金属2，与上面的金属1设置类似。
TYPE ROUTING ;
WIDTH 0.30 ;
SPACING 0.30 ;
PITCH 1.20 ;
DIRECTION VERTICAL ; 该设置与金属1层有区别，走线方向为垂直。
CAPACITANCE CPERSQDIST 0.000120 ;
RESISTANCE RPERSQ 0.020000 ;
END metal2
VIA M1_POLY1 DEFAULE 该设置定义怎样产生通孔，这里生成默认情况下metal 与poly1 之间的通孔。这里产生的通孔在上下两层都是default width时产生的，当上下两层不是默认宽度时，有另外的规则定义。
LAYER poly1;
RECT -0.30 -0.30 0.3 0.3 ; 设置定义Poly1(多晶) 的形状。
LAYER cont;
RECT -0.15 -0.15 0.15 0.15; 设置定义cont(接触孔)的形状。
LAYER metal1;
RECT -0.3 -0.3 -0.3 0.3; 设置定义metal1的形状
END M1_POLY1
VIA M2_M1 DEFAULT 该设置定义默认情况下metal1 与 metal2 之间的通孔。与上面通孔设置类似。
LAYER metal1 ;
RECT -0.30 -0.30 0.30 0.30 ;
LAYER via ;
RECT -0.15 -0.15 0.15 0.15 ;
LAYER metal2 ;
RECT -0.30 -0.30 0.30 0.30 ;
END M2_M1
VIA M3_M2 DEFAULT 该设置定义metal2 与 metal3 之间的通孔。
LAYER metal2 ;
RECT -0.30 -0.30 0.30 0.30 ;
LAYER via2 ;
RECT -0.15 -0.15 0.15 0.15 ;
LAYER metal3 ;
RECT -0.30 -0.30 0.30 0.30 ;
END M3_M2
VIARULE VIAGEN21 GENERATE 与前面通孔设置不同，该设置定义在非默认情况时通孔的生成规则。
LAYER metal1 ;
DIRECTION HORIZONTAL ;
OVERHANG 0.3 ;
metaloverhang 0.0 ;
LAYER metal2 ;
DIRECTION VERTICAL ;
OVERHANG 0.3 ;
metaloverhang 0.0 ;
LAYER via ;
RECT -0.15 -0.15 0.15 0.15 ;
SPACING 0.6 BY 0.6 ;
END VIAGEN21
SITE standard 该设置定义各种site，此处定义标准单元的site。
SYMMETRY y ;
CLASS core ;
SIZE 1.20 BY 10.80 ;
END standard
SITE IO 该设置定义IO 单元的site。
SYMMETRY y ;
CLASS pad ;
SIZE 21.05 BY 70.80 ;
END IO
SITE corner 该设置定义芯片四个拐角上的pad 的site。
CLASS pad ;
SIZE 70.80 BY 70.80 ;
SYMMETRY y r90 ;
END corner
SITE SBlockSite 该设置定义硬核单元block 的site，用于block，如RAM/ROM, HardIP。
CLASS core ;
SIZE 1.00 BY 1.00 ;
END SBlockSite
以上LEF 定义了各种布局布线规则，工具根据这些规则进行布局布线。以上LEF即为布局布线工具使用类似工艺文件性质的LEF数据。
下面定义各种不同cell 的几何信息，提供给布局布线工具使用。
MACRO AOI21_B 该设置定义单元AOI21_B的LEF信息。
ORIGIN 0.00 0.00 ; 该设置定义原点坐标。
SIZE 6.00 BY 10.80 ; 该设置定义单元大小，单位为um
SYMMETRY x y ; 该设置定义工具可以在x y 方向旋转摆放该单元。
SITE standard ; 该设置定义standard site， 该设置说明该单元类型为标准单元，其他类型还有IO，则是SITE为IO。
CLASS CORE ;该设置定义该单元是在芯片内核中使用而不是可以放置在IO的位置。
PIN vdd! 该设置定义电源的名称 pin vdd！。
USE POWER ; 该设置定义vdd！是用于power。
DIRECTION INPUT ; 该设置定义vdd！是输入PIN脚。
SHAPE FEEDTHRU ;
PORT
LAYER metal1 ; 该设置定义该单元的vdd！ 的 形状。。
RECT 0.00 9.15 6.00 10.65 ; 该设置定义vdd！的金属1层RECT 矩形形状参数。
END
END vdd!
PIN gnd! 该设置定义地线名称 pin gnd！。
USE GROUND ; 该设置定义gnd！用于地。
DIRECTION INPUT ; 该设置定义gnd！是输入PIN脚。
SHAPE ABUTMENT ;
PORT
LAYER metal1 ;
RECT 0.00 0.15 6.00 1.65 ; 该设置定义gnd！的金属1层RECT 矩形形状参数。
END
END gnd!
PIN Y 该设置定义PIN脚Y。
DIRECTION OUTPUT ; 该设置定义Y 是输出端。
PORT
LAYER metal1 ;
RECT 4.12 2.32 4.28 2.48 ; 该设置定义Y 在金属1层的形状。
RECT 5.32 8.32 5.48 8.48 ;
RECT 5.32 7.12 5.48 7.28 ;
RECT 5.29 5.89 5.51 6.11 ;
RECT 5.29 4.69 5.51 4.91 ;
RECT 5.29 3.49 5.51 3.71 ;
LAYER cont ;
RECT 4.05 3.15 4.35 3.45 ;
RECT 4.05 2.25 4.35 2.55 ;
RECT 5.25 8.10 5.55 8.40 ;
RECT 5.25 7.20 5.55 7.50 ;
END
END Y
OBS 该设置定义OBStruct阻塞的参数， 即下面定义的区域不可以布线（这里是metal1）。
LAYER metal1 ;
RECT 5.09 1.95 5.85 2.71 ;
RECT 5.09 3.29 5.85 3.91 ;
RECT 5.09 4.49 5.85 5.11 ;
RECT 5.09 5.69 5.85 6.31 ;
RECT 5.09 6.89 5.85 7.51 ;
LAYER via ; 该设置定义布局布线工具不可打孔的地方。
RECT 5.28 7.08 5.52 7.32 ;
RECT 5.28 8.28 5.52 8.52 ;
RECT 4.08 2.28 4.32 2.52 ;
END
END AOI21_B
END LIBRARY
1， SITE
SITE standard 该设置定义site。
SYMMETRY y ;
CLASS core ;
SIZE 1.20 BY 10.80 ;
END standard
site 是布局布线工具识别单元中最小的几何单位，一个设计中可能有几种site，site standard 指标准单元的site，site IO 指IO pad 的site。一般说来，cell 的高度是一定的，等于site 的高度，cell 的宽度是site 的整数倍。
2， Via rule
通孔生成规则，布线时，不同层的线连接时需要打通孔，不同的情况需要不同的通孔生成，生成什么样的通孔由LEF 内的通孔生成规则决定。
3， pitch
pitch 是LEF 中一个重要的概念，它定义了将来布线的间距，它对布线的效果有很大的
影响。pitch 就是同一层中金属的间距，布局布线是一个有网格布线器，它布线的最小网格就是1 个pitch，如下图所示。
信号线是沿着网格走的，pitch 大于等于line to via spacing， 即保证1 个格点上走线，相邻格点打孔，孔与线的间距不违反间距规则。在多层布线中，一般定义各层pitch 相同或保持一个简单关系，如1:2,这样保证好的布线效果。pitch 的大小一定要仔细考虑。
4， abstract
一个cell 的完整版图包含了所有层的信息，但是在布局布线工具使用中，并不需要那么多的信息，布局布线工具只要知道pin 的位置、什么地方不能布线、等较少的信息就可以了，这样可以减少数据量，提高处理速度。
如下图所示是一个cell 的版图（layout）和它的LEF的图形描述。布局布线将用cell 的abstract信息来布线。
有一些专门的工具用于将cell 的完整版图转成abstract，如cadence 的abstract generator。
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原文地址：https://www.cnblogs.com/lelin/p/11751323.html
